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愛德華半導體干泵
更新時間:2020-10-14   點擊次數(shù):3736次

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半導體干泵iXM 系列 —— 低能耗性能

通過增加正常運行時間、減少對環(huán)境的影響以及良好的成本效益,iXM 低能耗干泵可為您的關(guān)鍵應用帶來真正的制程改進。

高效的根源機制可將輸入功率減少多達 60%,從而減少對環(huán)境的影響并降低總體使用成本
氣體阻隔技術(shù)和隔熱設(shè)計方面的改進使產(chǎn)品的抗腐蝕性比我們之前的系列提高了四倍
先進的粉塵處理功能可為多層蝕刻工藝提供更高的可靠性,延長真空泵使用壽命,并降低 CVD 工藝的功耗
緊湊輕巧的設(shè)計,加上極低的噪聲和振動,可提供更多的用途
采用 Xcede 技術(shù),增強了耐腐蝕性。

半導體干泵用于重型應用的 iXH 系列

iXH 干泵系列為嚴苛的工藝能力、可靠性和更低的擁有成本樹立了新標準。


寬廣的溫度范圍使您可以對真空設(shè)備進行優(yōu)化,更大地減少冷凝和電鍍的副產(chǎn)物累積
iXH Mk2 干泵可在嚴苛的工藝中提供更長的使用壽命,并且可以顯著提高功效
創(chuàng)新的密封技術(shù)可以延長制程壽命并降低泄漏風險
采用 Xcede 技術(shù),增強了耐腐蝕性。


半導體干泵用于輕型應用的 iXL 系列

iXL 系列是系列低能耗緊湊型干泵,適用于輕量應用,例如晶片處理、PVD 和計量。

快速腔體抽空和極低功耗 
iXL600(N) 和 iXL1000(N) 干泵是輕量應用中小、安靜的泵之一 
iXL600M 和 iXL1000M 兩種型號經(jīng)過工藝加固,專門設(shè)計用于電介質(zhì)(氧化)蝕刻和其他類似應用 
iXL600(N) 和 iXL1000(N) 干泵具有高抽取速度和低能耗的特點
iXL900R 是目前同類產(chǎn)品中速度快的負載鎖定泵,用于 FPD 負載鎖定應用。使用這種新型泵,客戶可以顯著降低其運營成本和安裝時間,特別適用于等離子體氣相沉積 (PVD) 應用的大負載鎖定腔室。此外,每個負載鎖定腔室需要的泵會更少,從而減少了客戶的安裝時間、系統(tǒng)化成本、維護和公共設(shè)施消耗。
“綠色模式”可減少閑置期間的公共設(shè)施使用、降低成本并有助于提高環(huán)境績效

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